АНАЛИТИЧЕСКИЙ КОНТРОЛЬ КАЧЕСТВА ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ ПРИ ИОННОМ, ИОННО-ПЛАЗМЕННОМ ВОЗДЕЙСТВИИ

Авторы

  • В.Н. Арустамов Институт ионно-плазменных и лазерных технологий АН РУз
  • Р.Х. Ашуров Институт ионно-плазменных и лазерных технологий АН РУз
  • В.М. Ротштейн Институт ионно-плазменных и лазерных технологий АН РУз
  • Х.Б. Ашуров Институт ионно-плазменных и лазерных технологий АН РУз
  • И.Х. Худайкулов Институт ионно-плазменных и лазерных технологий АН РУз

Аннотация

В работе исследованы методы очистки поверхности подложек перед нанесением покрытий вакуумно-плазменными способами. Рассмотрены механический и химический способы очистки, термообработка и обработка тлеющим разрядом. Представлены ИК спектры и спектры комбинационного рассеивания (КР), полученные в результате аналитических исследований состояния поверхности образцов. На основе анализа интенсивностей ИК и КР спектров продемонстрирована зависимость степени чистоты поверхности образцов от применяемого метода очистки.

Загрузки

Опубликован

2019-10-21

Как цитировать

Арустамов, В., Ашуров, Р., Ротштейн, В., Ашуров, Х., & Худайкулов, И. (2019). АНАЛИТИЧЕСКИЙ КОНТРОЛЬ КАЧЕСТВА ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ ПРИ ИОННОМ, ИОННО-ПЛАЗМЕННОМ ВОЗДЕЙСТВИИ. «Узбекский физический журнал», 21(5), 310–317. извлечено от http://ufj.uz/index.php/ufj/article/view/135

Выпуск

Раздел

03. Физическая электроника. Физическая кинетика и физика плазмы

Наиболее читаемые статьи этого автора (авторов)